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高效率触控盖板专用镀膜机深圳诞生
发布日期:2019-11-10   点击量:1835   作者:玻璃杯   文章来源:www.chuangxinmug.com

自主创新,高效触摸盖专用涂布机诞生于深圳

相同的容量投资仅为进口设备的1/5至1/3

目前,磁控溅射光学镀膜仍是中国新的词汇。最早的磁控溅射光学镀膜机出现在上世纪末的北美(美国和加拿大),镀膜的光学薄膜是AR薄膜(反射薄膜)。随着技术的进步,数十层光学薄膜系统通过磁控溅射镀膜机进行电镀。

在上个世纪末,在光通信的发展过程中,美国的一家公司使用磁控溅射镀膜机来制造100G DWDM滤波器。目前,该涂布机仍用于生产CWDM和光通信截止滤光片。在光通信领域的成功应用称为光学镀膜金字塔尖端,足以说明磁控溅射光学镀膜技术的优势和优势!

目前,最先进,最复杂的光学薄膜产品在欧洲和美国制备。其中,溅射技术主要用于美国,包括离子束溅射和磁控溅射,并且几乎不使用电子束蒸发技术。在欧洲,使用溅射和电子束蒸发。在每一半中,电子束蒸发有助于几乎所有强大的等离子体源。亚洲和中国的光学薄膜制备仍以电子束蒸发为主。一些着名的光学薄膜制备公司已经开始使用溅射技术,包括离子束溅射和磁控溅射,如中国的Onna Communications,中南集团和Yong New光学等。

在2013年5月23日至25日在深圳举行的第六届深圳国际触摸屏技术与设备展览会上,深圳三坂涂装技术公司将重点介绍“旋转工件在线石英晶体薄膜厚度测量与控制技术”支架”。该技术是Sanbunch公司的核心专利技术,该公司打算使用磁控溅射镀膜机。正义很重要。三梁公司自2007年开始研制磁控溅射光学镀膜机。完成溅射系统,离子源氧化系统,高速工件驱动系统,薄膜厚度测量控制系统,操作系统和操作系统的研究和设计花了五年时间。涂布机的整体结构。该公司的磁控溅射光学镀膜机产品分为两个方向,一个是过滤器SAOS-1680系列,每个炉子涂层面积为1.5-3平方米,另一个是AR SWOS-1800系列,每个炉子涂层面积为13平方米。 SWOS-1800系列在这里介绍。它主要针对电容式触摸屏盖玻片上的AR和AS涂层,SENSOR抗反射涂层和大面积柔性基板上的增透膜(如偏光片AR + AS涂层和PTF基板AR + AS涂层)。

工件架上的在线石英晶体薄膜厚度测量和控制技术:

三梁公司在旋转工件架上自主开发了在线石英晶体薄膜厚度测控技术,解决了直接测量工件架上薄膜厚度的主要问题,为三梁公司磁控溅射光学镀膜的实现奠定了基础。机器系列产品。

用于旋转工件的晶体控制探头的照片

旋转阴极技术:

光学膜层对膜空间均匀性分布具有特别高的要求。旋转阴极(圆柱形靶)与平面阴极(平面靶)不同,并且没有明显的蚀刻槽,因此膜空间均匀性分布比平面阴极好得多。三良公司专门为磁控溅射光学镀膜机开发了双端固定旋转阴极。双端固定结构对于光学溅射也是必需的,这避免了单端固定模式的非固定端容易产生的摇摆现象,并确保了膜厚度的时间稳定性。

圆柱目标照片

使用纯工业控制计算机可以稳定数据:

SWOS-1800涂布机的数据中心使用高质量的工业控制计算机。高质量的工业控制计算机不同于普通的民用计算机。他们的CPU,内存,主板甚至传输线都是通过特殊工艺制造的。它们的运行可靠性和抗电磁干扰性能远远优于民用计算机。工业控制计算机中的存储量远远高于民用计算机的价格。高质量工业控制计算机的应用为涂布机操作的可靠性奠定了基础。

工业控制计算机照片

运行稳定性比电子束蒸发涂布机好得多:

电子束蒸发镀膜机,电子枪控制系统具有负高压系统,弱电信号和控制系统。除了自身的复杂性外,负高压系统还会干扰弱电信号系统,这将导致涂布机的整体运行。不稳定,故障率增加。 SWOS-1800涂布机完全避免了电子束蒸发涂布机的这一缺点。同时,它坚持涂布机设计,元件采购和生产过程中的可靠性原则,因此其运行稳定性远优于电子束蒸发涂层。机。

高生产率和小投资

由于独特的磁控溅射薄膜形成方法和蒸发源与夹具之间的优化关系,真空室的体积小于真空室直径2050mm。电子束蒸发器真空室的体积很小。 SWOS-1800涂布机的承载能力为2050 mm。电子束蒸发器为4至5倍,AS防污膜的涂布时间相同。也就是说,SWOS-1800磁控溅射镀膜机的日防AS防污膜容量是2050mm电子束蒸发器的4到5倍。对于AR + AS薄膜,SWOS-1800磁控溅射镀膜机的日容量是2050mm电子束蒸发器容量的3.5倍以上。

对于电容式触摸屏工厂或玻璃盖工厂,配套涂层始终能够使用,投资仅为韩国涂布机选择的1/3,是日本涂布机的1/5。这种类型的涂布机已经稳定用于三星和其他手机制造商的产品的多涂层加工。

中国玻璃网(新闻编辑部

日期归档2019年11月 2019年10月 2019年09月

 

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